关于我们
安光企业集团，深耕光刻胶与显影液研发生产，匠心打造优质电子材料，赋能半导体产业高质量发展。
安光企业集团，深耕光刻胶与显影液研发生产，匠心打造优质电子材料，赋能半导体产业高质量发展。
TMAH显影液EPD系列是永光化学（Everlight Chemical）专为正型光刻胶设计的高纯有机碱显影液。其有效成分为四甲基氢氧化铵（Tetramethylammonium Hydroxide, TMAH），广泛应用于半导体、封装及显示面板等产业的黄光制程中。该系列的核心优势在于不含金属离子，能有效避免对精密电路造成离子污染，从而保障产品的良率与可靠性。
TMAH显影液EPD系列是永光化学（Everlight Chemical）专为正型光刻胶设计的高纯有机碱显影液。其有效成分为四甲基氢氧化铵（Tetramethylammonium Hydroxide, TMAH），广泛应用于半导体、封装及显示面板等产业的黄光制程中。该系列的核心优势在于不含金属离子，能有效避免对精密电路造成离子污染，从而保障产品的良率与可靠性。
.EPD
Property:
1.
2.
应用领域：
1.半导体先进封装（封测）：EPD 56等型号针对金凸块、铜柱及重布线层等2.5D/3D先进封装工艺设计，是芯片堆叠技术的关键耗材之一。
2.晶圆制造（前道）：广泛应用于8吋、12吋晶圆厂的黄光制程，为逻辑芯片、存储芯片制造中的关键光刻步骤提供高纯度显影。
3.面板显示（FPD）：可用于TFT-LCD和OLED面板制造中的正型光阻剂显影制程，提升显示面板的色彩表现。
4.分立器件与LED：适用于各类功率半导体器件和LED芯片的图形化工艺。
