KOH显影液 ENPD 系列是永光化学(Everlight Chemical)专为负型光刻胶设计的高浓缩水溶性无机碱显影液,在LED、触控面板、FPC及先进封装等制造工艺中应用广泛。ENPD系列显影液的核心功能是将曝光后的负型光刻胶图案,从没有图案的区域精准去除,从而显露出所需的电路图形。其关键作用在于能有效改善显影后的残渣问题,并已经获得下游厂商的认证与稳定使用。在品牌定位上,永光化学在IC、LCD、LED光阻剂领域占据领先地位,并已构建起包含光阻剂、显影液、研磨液等在内的完整产品供应链。
KOH显影液 ENPD 系列是永光化学(Everlight Chemical)专为负型光刻胶设计的高浓缩水溶性无机碱显影液,在LED、触控面板、FPC及先进封装等制造工艺中应用广泛。ENPD系列显影液的核心功能是将曝光后的负型光刻胶图案,从没有图案的区域精准去除,从而显露出所需的电路图形。其关键作用在于能有效改善显影后的残渣问题,并已经获得下游厂商的认证与稳定使用。在品牌定位上,永光化学在IC、LCD、LED光阻剂领域占据领先地位,并已构建起包含光阻剂、显影液、研磨液等在内的完整产品供应链。
.ENPD
Property:
1.
2.
应用领域:
1.LED芯片制造:作为核心显影液,与Lift-off光刻胶配套,用于形成LED芯片的金属电极图形。
2.触控面板制造 (Touch Panel):广泛应用于On-Cell、OGS等各类触控传感器结构中的负型光阻剂显影。
3.显示面板 (FPD):可用于TFT-LCD及OLED面板中彩色光阻的显影,提升色彩的饱和度和均一性。
4.印刷电路板 (FPC):用于柔性电路板的精细线路制程。
5.半导体先进封装:可用于晶圆级封装、扇出型封装等工艺中光刻胶的显影。