负型光刻胶 ENPI系列

ENPI系列 是一款专为剥离(Lift-off)工艺设计的碱性显影负型光刻胶,其标志性的倒梯形(Inverted Trapezoid)轮廓,是实现金属线路高精度剥离的关键。ENPI系列主要分为 200系列 和 300系列,分别对标LED/RDL PMOLED/AMOLED 的应用需求。

产品详情

  1. ENPI系列 是一款专为剥离(Lift-off)工艺设计的碱性显影负型光刻胶,其标志性的倒梯形(Inverted Trapezoid)轮廓,是实现金属线路高精度剥离的关键。
    ENPI系列主要分为 200系列 和 300系列,分别对标LED/RDL PMOLED/AMOLED 的应用需求。


  2. .ENPI 200 series-
       Resist Film Thickness:2~6um
       ENPI 300 series                        
       Resist Film Thickness:1~20um
       Property:
       1. High thermal resistance;
       2. High resolution;                                                                                                                                                            
       3.Wide angle margin of pattern.


  3. 应用领域:
      1.LED芯片制造:制作LED芯片的金属电极,提升光效。
      2.显示面板(OLED):用于PMOLED/AMOLED像素隔离柱(Pillar/Rib)和金属电极图形化。
      3.集成电路先进封装:应用于金凸块(Gold Bump)、铜柱(Cu Pillar)及RDL重布线层等2.5D/3D封装工艺。
      4.MEMS制造:用于制造微传感器和微执行器的高精度图形。


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